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技术突破丨三孚新科水平沉铜工艺通过性能测试,可应用于AI服务器专用PCB制造
发布时间:2024-08-13 阅读次数:3455

摘要:


继三孚新科高纵横比脉冲镀铜工艺实现技术飞跃,旗下博泉化学年内拿下多条头部PCB厂商产线之后(点击查看),近日,三孚新科PCB专用电子化学品板块再传佳音,旗下广州皓悦新材料科技有限公司(以下简称:皓悦新材)的高端水平沉铜DC-105U系列工艺成功通过某头部AI服务器专用PCB制造厂商的性能测试,可应用于终端客户的服务器主板/加速卡/训练卡等高多层板HLC、与高阶HDI产品。

这标志着三孚新科电子化学品在高阶PCB制造领域已实现孔金属化相关工艺(如化学沉铜、电镀铜、填孔电镀等)的全面覆盖。




AI技术发展有力推动高阶PCB需求


AI产业的加速演进,正从深度和广度上推动上游PCB产业链的进步。在深度方面,人工智能训练和推理等算力需求的持续扩大,倒逼芯片性能升级,配套的PCB性能也大幅提升,高端PCB市场份额增速加快;在广度方面,AI技术的商用场景不断扩展,如机器人、智能驾驶、AI手机等新兴领域的兴起,也极大地增加了对专用PCB的需求。两方因素影响下,国内相关PCB订单暴增,据公开资料显示,多家头部PCB制造企业已接到大量AI领域订单,正持续出货中。

这其中,高阶HDI需求尤为明显——HDI(高密度互连)技术的引入进一步缩小了PCB布线空间和元件间距,大幅提升了服务器的集成度和性能,成为了AI服务器迅猛发展的核心助力。高阶HDI板与高多层板作为AI服务器的重要组成部分,要实现电气的互联互通,其制造过程中的孔金属化工艺尤为关键,而水平沉铜则是当前最佳的孔金属化工艺之一。其主要作用是将钻孔孔壁金属化。通过在绝缘的孔壁上用化学的方法沉积一层薄薄的化学铜层,以作为后面电镀铜的基底导电层,从而实现PCB各层间电气互联。


皓悦新材高端水平沉铜工艺顺利通过严苛测试


水平沉铜工艺主要由膨松、除胶、中和、整孔、微蚀、预浸、活化、还原、化铜等制程组成。在如今PCB线路更密集、线距更窄、通孔更小、板厚更厚的情况下,要求水平沉铜化学品在保证深镀能力和镀层均匀的前提下,提供高效率的生产能力。


目前,皓悦新材的PCB水平沉铜工艺专用化学品整体性能与国外先进水平相当,已在胜宏科技(300476.SZ)、健鼎科技(3044.TW)、奥士康(002913.SZ)、崇达技术(002815.SZ)和兴森科技(002436.SZ)等客户中实现了规模化应用。




针对AI服务器专用PCB领域,皓悦新材水平沉铜DC-105U系列按市场需求已全面完成配方升级,有效满足如下应用条件:通孔最小孔径0.13mm、最大板厚10mm、高纵横比AR 30:1-50:1。


在可靠性测试中,DC-105U顺利通过所有性能考验:





测试结果的优异表现,进一步验证了皓悦新材在水平沉铜工艺领域的领先技术实力,为公司后续在AI服务器、电动汽车等高端PCB领域的市场拓展奠定了坚实的基础。



延伸阅读


皓悦新材,成立于2016年,是一家专业从事印制线路板行业高端电子化学品研发、生产和销售的先进企业。公司拥有专业的研发、生产、销售和服务团队,掌握多项行业领先及先进的孔金属化、电镀及表面处理核心技术,拥有众多行业典型的成功案例。其中PTH水平沉铜系列和化学镍金系列已在全国区域内实现规模化应用。


目前皓悦新材已与国内多家头部PCB先进制造企业达成战略合作,服务水平沉铜产线、电镀铜产线及化学镍金产线超过100条,市占率在国内同行中处于领先地位,紧追国外竞争对手。





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